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<p>Anordnung zur dropletarmen Beschichtung von Substraten (4) mit einem Vakuumlichtbogenverdampfer (7), der seitlich neben den zu beschichtende Substraten (4) angeordnet ist, wobei der von der Oberfläche des Targets (8) ausgehende Plasmastrahl im Wesentlichen parallel zur Oberfläche der zu beschichtenden Substrate (4) gerichtet ist, und einer magnetischen Ablenkeinrichtung zur Veränderung der Richtung des Plasmastrahls (9) in Richtung der Substrate (4) mit mindestens zwei Magneten (11, 12), deren Magnetfeldlinien den Plasmastrahl (9) kreuzen, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnete (11, 12) der Ablenkeinrichtung während der Beschichtung örtlich verschiebbar sind oder, wenn das Magnetfeld mit Elektromagneten erzeugt wird, eine Vorrichtung zur Veränderung des Spulenstromes vorhanden ist.</p> |
