| 摘要 |
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Bereitstellen eines Anstrichfilmes mit einer gleichmäßigen Filmdicke vorzusehen, das einen Maskiervorgang ausschließt und einen Anstrich nur an einen Gleitabschnitt effizient beschichten kann, und das einen Anstrichfilm mit einer gleichmäßigen Filmdicke über den gesamten Bereich des Gleitabschnittes bereitstellen kann, wenn ein Schmieranstrich an einem scheibenförmigen Substrat wie zum Beispiel eine Taumelscheibe eines Taumelscheibenverdichters beschichtet wird. Das Beschichtungsverfahren weist Folgendes auf: Zuführen des Schmieranstriches an dem Gleitabschnitt des scheibenförmigen Substrates aus einer Anstrichzuführungsdüse, während das scheibenförmige Substrat wie zum Beispiel die Taumelscheibe des Taumelscheibenverdichters in einer horizontalen Richtung gedreht wird; und Nivellieren des an dem Gleitabschnitt zugeführten Schmieranstriches durch ein Streichmesser, das an einer stromabwärtigen Position in einer Drehrichtung des scheibenförmigen Substrates angeordnet ist. |
