发明名称 |
一种阻变存储器及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种阻变存储器及其制备方法。该阻变存储器包括顶电极和底电极,顶电极与底电极之间设有由CeO<sub>x</sub>/CeO<sub>2</sub>双层薄膜构成的阻变功能层。其制备方法包括:(1)衬底清洗;(2)在衬底上形成底电极;(3)利用反应溅射沉积技术在所述底电极上沉积CeO<sub>x</sub>薄膜,沉积前,腔室真空度为5×10<sup>-5</sup>Pa;沉积过程中,腔室气压保持在1~3Pa,氧分压控制在0.1%~8%;(4)利用反应溅射沉积技术在所述CeO<sub>x</sub>薄膜上沉积CeO<sub>2</sub>薄膜,沉积前,腔室真空度为5×10<sup>-5</sup>Pa;沉积过程中,腔室气压保持在1~3Pa,氧分压控制在8%~30%;(5)在所述CeO<sub>2</sub>薄膜上形成顶电极。本发明的阻变存储器具有高存储密度、高读写速度、高耐久性、长的数据保持能力,并且具有低的能耗;其制备方法简单、成本低。 |
申请公布号 |
CN104752609A |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201310737539.0 |
申请日期 |
2013.12.26 |
申请人 |
北京有色金属研究总院 |
发明人 |
赵鸿滨;屠海令;魏峰;张艳;杜军 |
分类号 |
H01L45/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;G11C13/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 |
代理人 |
刘秀青;熊国裕 |
主权项 |
一种阻变存储器,其特征在于,包括顶电极和底电极,顶电极与底电极之间设有由CeO<sub>x</sub>/CeO<sub>2</sub>双层薄膜构成的阻变功能层。 |
地址 |
100088 北京市西城区新街口外大街2号 |