用于第III族氮化物层生长之图案层设计

主权项

一种方法，其包括：获得具有均方根粗糙度低于约0.5奈米的实质上平坦顶面的第一层；于该顶面上形成复数个开口，其中该复数个开口具有约0.1微米至约5微米之特征尺寸及至少0.2微米的深度且其中该复数个开口之间距系小于或等于该特征尺寸；于该顶面上形成第二复数个开口，其中该第二复数个开口具有约40奈米至约150奈米之特征尺寸；及于该第一层之该顶面上直接生长第二层，其中该第二层系由第III族氮化物材料形成，其具有至少70%的铝浓度且具有该等开口之特征尺寸之至少两倍的厚度。