| 发明名称 | 用于非平面基材的等离子体涂覆体系 | ||
| 摘要 | 一种非平面制品包括等离子体-沉积耐磨性涂覆,该涂层具有基本上均匀的厚度和δ浊度(％)在平均值约+/-0.25范围内的基本上均匀的耐磨性。 | ||
| 申请公布号 | CN104746050A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201510137665.1 | 申请日期 | 2005.03.08 |
| 申请人 | 埃克阿泰克有限责任公司 | 发明人 | B·A·科列瓦尔;C·D·亚科万格洛;T·米巴赫;M·W·梅塞德斯 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/513(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张力更 |
| 主权项 | 一种具有等离子体沉积的耐磨性涂层的非平面制品,该涂层具有基本上均匀的厚度和δ浊度(％)在平均值约+/‑0.25范围内的基本上均匀的耐磨性。 | ||
| 地址 | 美国密执安州 | ||