| 发明名称 | 压力缓冲器、液体喷射头、液体喷射记录装置以及压力缓冲方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种不论液体的种类如何，均能够精度良好地检测并控制压力的压力缓冲器、液体喷射头以及液体喷射记录装置。具备：本体部(91)，形成有用于使液体存积的凹部(91a)和在凹部(91a)开口的管路(93、94)；薄膜(96)，以密封凹部(91a)的方式配置，在凹部(91a)的周缘部(91c)固定于本体部(91)；基准部件(97)，与薄膜(96)接触自如且分离自如，配置于凹部(91a)的内部；以及位移量检测装置，具有环形线圈部(99)，该环形线圈部相对于基准部件(97)而不接触地检测伴随着存积于凹部(91a)的液体的压力变动的、基准部件(97)的相对位置的位移。 | ||
| 申请公布号 | CN102341242B | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201080011122.0 | 申请日期 | 2010.03.01 |
| 申请人 | 精工电子打印科技有限公司 | 发明人 | 渡边俊显;佐贺行弘 |
| 分类号 | B41J2/175(2006.01)I | 主分类号 | B41J2/175(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 严志军;杨楷 |
| 主权项 | 一种压力缓冲器，具备：本体部，形成有用于使液体存积的凹部和在所述凹部开口的管路；薄膜，以密封所述凹部的方式配置，在所述凹部的周缘部固定于所述本体部；基准部件，与所述薄膜接触自如且分离自如，配置于所述凹部的内部；以及位移量检测装置，相对于所述基准部件和所述薄膜而不接触地检测伴随着存积于所述凹部的所述液体的压力变动的、所述基准部件的相对位置的位移，所述基准部件含有磁性体或导体，所述位移量检测装置具有环形线圈部，该环形线圈部在与所述基准部件平行的面内将线材卷成环状。 | ||
| 地址 | 日本千叶县 | ||