| 摘要 |
La presente se refiere a un dispositivo de generación de plasma que comprende una fuente de plasma con cuerpo hueco de fuente de plasma (1) y unidad de emisión de electrones (5) que permite emitir electrones libres en el cuerpo hueco de fuente de plasma, presentando el cuerpo hueco de fuente de plasma (1) una primera entrada de gas (7a) y una abertura de la fuente de plasma (10) que conforma una abertura hacia una cámara de vacío, así como un ánodo con cuerpo hueco de ánodo (2), conformando el cuerpo hueco de ánodo (2) una segunda entrada de gas (7b) y una abertura de ánodo (11) que forman una abertura hacia la cámara de vacío, y una fuente de tensión (8) cuyo polo negativo está conectado con la unidad de emisión de electrones (5) y cuyo polo positivo está conectado con el cuerpo hueco de ánodo (2) en el que el polo positivo de la fuente de tensión (8) además está conectado eléctricamente por medio de una primera resistencia de derivación (6a) con el cuerpo hueco de fuente de plasma. |
