发明名称 修正装置
摘要 本发明公开一种修正装置,其对于试样的损伤较小,在长时间内稳定且效率良好地进行遮罩等的细微部位的修正。修正装置(10)具备:气体电场电离离子源,其具有锐化的针尖;冷却机构,其冷却针尖;离子束镜筒(11),其使在气体电场电离离子源产生的气体的离子集束,形成集束离子束;试样工作台(15),其设置经透过离子束镜筒(11)形成的集束离子束照射的试样,并可以移动;试样室(13),其内置试样工作台(15);以及控制部(20),其透过集束离子束修正作为试样的遮罩(14)或奈米压印微影的模具。气体电场电离离子源以氮作为离子,并具备利用铱单晶所构成的针尖,该铱单晶具有可以产生离子的单一的顶点。
申请公布号 TW201526022 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW103126741 申请日期 2014.08.05
申请人 日立高新技术科学股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION 发明人 荒卷文朗 ARAMAKI, FUMIO;八坂行人 YASAKA, ANTO;松田修 MATSUDA, OSAMU;杉山安彦 SUGIYAMA, YASUHIKO;大庭弘 OBA, HIROSHI;小堺智一 KOZAKAI, TOMOKAZU;相田和男 AITA, KAZUO
分类号 G21K1/04(2006.01);G21K5/04(2006.01);H01J37/08(2006.01) 主分类号 G21K1/04(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP