利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法

摘要

本发明公开一种利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法，具体如下：（a）清洗衬底；（b）在衬底表面生成金属纳米颗粒；（c）在衬底表面沉积一层氧化物薄膜；（d）衬底表面再次沉积金属纳米颗粒；（e）将衬底置于酸性溶液或碱性溶液中腐蚀，即获得金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底；本发明利用ALD在金属颗粒之间引入均一的纳米级厚度的氧化物，再通过化学腐蚀的方法去除部分氧化物，以此来制备纳米级的金属间隙，并用来作为表面增强拉曼散射基底，该方法步骤简单、重复性好、成本低廉，所得基底具有优异的表面增强拉曼散射性能。

主权项

一种利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法，其特征在于，具体步骤如下：（a）分别依次以丙酮、异丙醇、乙醇和去离子水超声清洗衬底；（b）利用磁控溅射或电子束蒸镀方法在衬底表面沉积一层3‑10nm的金属薄膜，然后在氮气氛围下，将金属薄膜在400‑800℃进行10‑60s的快速退火，生成3‑10nm金属纳米颗粒；     或者利用ALD方法在衬底表面沉积一层厚度为5‑10nm的金属纳米颗粒；（c）将衬底转移至ALD反应腔中，沉积2‑20nm的氧化物薄膜，所述氧化物为Al₂O₃、ZnO、或SiO₂；（d）再次利用磁控溅射或电子束蒸镀方法在衬底表面沉积一层3‑10nm的金属薄膜，然后在氮气氛围下，将金属薄膜在400‑800℃进行10‑60s的快速退火，生成3‑10nm金属纳米颗粒；    或者利用ALD在衬底表面沉积一层厚度为5‑10nm的金属纳米颗粒；（e）将衬底置于酸性溶液或碱性溶液中腐蚀60‑300s，即获得金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底。