| 发明名称 | 一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法，属于显示技术领域。掩膜板包括托盘；所述托盘上具有至少一个掩膜定位槽，每一个所述掩膜定位槽内设置有掩膜。本发明提供的掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法能够有效实现闭环开口的掩膜，提高基板上成膜的质量。 | ||
| 申请公布号 | CN104749874A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201510136925.3 | 申请日期 | 2015.03.26 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 藤野诚治;张嵩;王涛;高静;杜小波 |
| 分类号 | G03F1/64(2012.01)I;G03F1/66(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/64(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 张所明 |
| 主权项 | 一种掩膜板，其特征在于，包括托盘；所述托盘上具有至少一个掩膜定位槽，每一个所述掩膜定位槽内设置有掩膜。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||