发明名称 或逻辑和与非逻辑器件的结构及制作方法
摘要 本发明公开了一种或和与非逻辑器件的结构,或逻辑器件制作在接地的p阱或p型衬底中,上面有两个并联并紧邻的门控栅,各自控制其下两个相邻并并联的n型导电沟道;在沿着两个门控栅交界线的方向上,在门控栅两端有高掺杂n型源区和漏区,作为两个沟道的引出端;门控栅上各有一个多晶硅栅极,两个多晶硅栅极相互电学隔离并独立引出,作为或逻辑的两个输入端。与非逻辑器件和或逻辑器件结构类似,不同的是制作在n阱或n型衬底中,源漏区为高掺杂p型。本发明还公开了上述结构的或和与非逻辑器件的制作方法。本发明通过设计新型的或和与非逻辑器件结构,不仅简化了器件和电路结构,减小了电路面积和制造成本,而且使电路的时序控制更为简单。
申请公布号 CN104752418A 申请公布日期 2015.07.01
申请号 CN201310752395.6 申请日期 2013.12.31
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 吴兵;王永成;戴有江
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H03K19/173(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 丁纪铁
主权项 或逻辑器件的结构,其特征在于,制作在p阱或p型衬底中,p阱或p型衬底接地,上面有两个并联并紧邻的门控栅,各自控制其下两个相邻并并联的n型导电沟道;在沿着两个门控栅交界线的方向上,在门控栅的两端有高掺杂n型源区和漏区,作为两个n型导电沟道的引出端;门控栅上各有一个多晶硅栅极,两个多晶硅栅极相互电学隔离并独立引出,作为或逻辑的两个输入端。
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