发明名称 |
一种化学机械抛光液以及抛光方法 |
摘要 |
本发明涉及一种化学机械抛光液在提高二氧化硅/氮化硅选择比中的应用,化学机械抛光液包含研磨颗粒,含硅的有机化合物,大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子,以及含氮化合物,且所述含硅的有机化合物为以下通式,<img file="DDA0000446099240000011.GIF" wi="421" he="296" />其中,R为不能水解的取代基,D是连接在R上的有机官能团,其可与有机物质反应而结合,A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基,C是可水解基团或羟基,或不可水解的烷基取代基。 |
申请公布号 |
CN104745082A |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201310726697.6 |
申请日期 |
2013.12.25 |
申请人 |
安集微电子(上海)有限公司 |
发明人 |
高嫄;荆建芬;陈宝明 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海翰鸿律师事务所 31246 |
代理人 |
李佳铭 |
主权项 |
一种化学机械抛光液在提高二氧化硅/氮化硅选择比中的应用,其特征在于,所述化学机械抛光液包含研磨颗粒,含硅的有机化合物,大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子,以及含氮化合物,且所述含硅的有机化合物为以下通式,<img file="FDA0000446099220000011.GIF" wi="429" he="314" />其中,R为不能水解的取代基,D是连接在R上的有机官能团,其可与有机物质反应而结合,A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基,C是可水解基团或羟基,或不可水解的烷基取代基。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 |