| 发明名称 |
带有简化光学元件的极紫外线（ＥＵＶ）基板检查系统及其制造方法;EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) SUBSTRATE INSPECTION SYSTEM WITH SIMPLIFIED OPTICS AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF |
| 摘要 |
一种极紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法，包含：一EUV来源，该EUV来源引导EUV照射穿过一光圈；一光侦测器，该光侦测器侦测带有由一基板反射离开的减低之偏离轴的射线的光罩照射；及一电脑装置，该电脑装置处理由该光侦测器侦测到之影像资料。; a light detector detecting mask illumination with reduced off axis rays reflected off from a substrate; and a computing device processing image data detected by the light detector. |
| 申请公布号 |
TW201525620 |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
| 申请号 |
TW103144123 |
申请日期 |
2014.12.17 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
福德马吉德Ａ FOAD, MAJEED A.;班却尔克里斯多夫丹尼斯 BENCHER, CHRISTOPHER DENNIS;泰伯克里斯托弗Ｇ TALBOT, CHRISTOPHER G.;莫兰约翰克利斯朵夫 MORAN, JOHN CHRISTOPHER |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财李世章 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 US |
