| 发明名称 |
高分子化合物、含有该化合物之薄膜及印墨组成物 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI490250 |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
| 申请号 |
TW099145723 |
申请日期 |
2010.12.24 |
| 申请人 |
住友化学股份有限公司;国立大学法人广岛大学 |
发明人 |
泷宫和男;尾坂格;小广健司;大家健一郎;三宅邦仁 |
| 分类号 |
C08G61/12;H01L27/144;H01L27/28;H01L29/786;H01L51/50 |
主分类号 |
C08G61/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种高分子化合物，其具有选自式(2)所示之重复单元、式(3)所示之重复单元及式(4)所示之重复单元所成群组中之至少一种重复单元：
式(2)中之X21及X22、式(3)中之X31及X32与式(4)中之X41及X42系分别相同或相异，表示硫原子；式(2)中之R23、R24、R25、R26、R27及R28、式(3)中之R33、R34、R35、R36、R37及R38、式(4)中之R43、R44、R45、R46、R47及R48系分别相同或相异，表示氢原子或烷基。 |
| 地址 |
日本 |
