形成掩模板图形的方法

摘要

一种形成掩模板图形的方法，包括：提供原始线状图形，所述原始线状图形具有两个相对的终端相邻片段，所述终端相邻片段与原始线状图形的终端相邻，并与其长度方向一致，所述终端相邻片段之间具有第一距离；修改所述原始线状图形，得到新的线状图形，所述新的线状图形的两个终端相邻片段之间的距离为第二距离，所述第二距离大于第一距离；以所述新的线状图形为基础，在OPC模型中形成掩模板图形。可有效减小甚至消除掩模板工艺极限对制造图形质量的影响，后续可制造出质量更高的光刻图形。

主权项

一种形成掩模板图形的方法，其特征在于，包括：提供原始线状图形，所述原始线状图形具有两个相对的终端相邻片段，所述终端相邻片段与原始线状图形的终端相邻，并与其长度方向一致，所述终端相邻片段之间具有第一距离；修改所述原始线状图形，得到新的线状图形，所述新的线状图形的两个终端相邻片段之间的距离为第二距离，所述第二距离大于第一距离；以所述新的线状图形为基础，在OPC模型中形成掩模板图形。