控制薄膜应力及其晶相之缓冲层及其制备方法

摘要

本发明系提供压力式喷雾热解成膜技术，采用矽烷类有机混合溶液包含三乙基矽烷(Triethylsilane,TES)及四乙氧基矽烷(Tetraethyl orthosilicate,TEOS)作为前驱物，利用适当的喷涂压力将溶液雾化成微米大小(~7um)的雾滴，用氮气携带至不锈钢基板表面产生热解及化学反应，形成厚度50nm至500nm具有氧化矽结构之缓冲层。针对CIGS太阳能电池为例，沉积钼薄膜于不锈钢基板表面之缓冲层上，能有效改善其光电性质。针对薄膜应力与结晶从优取向，此缓冲层及制备方法提供操作人员可以快速判断并调整制程方向，达到省时及降低成本的目的以符合产业界所需之要求。