| 发明名称 | 气体处理方法及系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种气体处理方法及系统。气体处理方法包括：将气体馈入分离装置以进行分离；以及，获得顶部流与底部流。一部分该顶部流作为回流。顶部流含有沸点较低的物质，且底部流含有沸点较高的物质。 | ||
| 申请公布号 | CN104740889A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201410612877.6 | 申请日期 | 2014.11.03 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 刘彦君;何宗仁;刘文宗;张瑞玉;黄圣夫;周君颐;余铧堂 |
| 分类号 | B01D3/14(2006.01)I | 主分类号 | B01D3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 梁挥;李岩 |
| 主权项 | 一种气体处理方法，包括：将含有有机挥发物的该气体从馈入点馈入分离装置以进行分离；以及于该馈入点上方获得含有沸点较低的物质的顶部流，于该馈入点下方获得含有沸点较高的物质的底部流，其中，一部分该顶部流回流与该分离装置中的该气体接触。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号 | ||