用于TFT基板清洗的免损伤清洗液

摘要

本发明涉及用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，包括磷酸二氢钙、磷酸、硝酸和水，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1～10％，磷酸所占的质量百分比为20～40％，硝酸所占的质量百分比为5～20％。上述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液的使用方法，包括如下步骤：将表面清洁的铝硅酸盐玻璃放入上述清洗液中进行浸泡，清洗液的温度为30-36摄氏度，根据不同的铝硅酸盐玻璃的损伤种类来选择前清洗的时间，前清洗完成后，可将玻璃基板直接放入蚀刻液中进行正常蚀刻。玻璃正常蚀刻前，将TFT玻璃基板浸泡在此清洗液中，能够有效的将TFT玻璃表面的损伤降低到目标范围内，并且不会影响玻璃的其他表面效果。

主权项

用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：组成为磷酸二氢钙、磷酸、硝酸、水以及阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1~10%，磷酸所占的质量百分比为20~40%，硝酸所占的质量百分比为5~20%。