| 发明名称 | 光致抗蚀剂图案修整组合物和方法 | ||
| 摘要 | 提供了修整光致抗蚀剂图案的组合物和方法。光致抗蚀剂修整组合物包括：基体聚合物，其包括从以下通式(I)的单体形成的单元，其中：R<sub>1</sub>选自氢、氟、C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基、和C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>氟烷基；R<sub>2</sub>选自C<sub>1</sub>-C<sub>15</sub>亚烃基；且R<sub>3</sub>选自C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>氟烷基；不含氟的芳酸；和溶剂。所述组合物和方法特别适用于半导体设备的制造。<img file="DSA0000114479080000011.GIF" wi="512" he="596" /> | ||
| 申请公布号 | CN104749888A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201410858486.2 | 申请日期 | 2014.12.30 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | 刘骢;李承泫;K·罗威尔;G·珀勒斯;C-B·徐;W·尹;T·A·埃斯戴尔;山田晋太郎 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 一种光致抗蚀剂图案修整组合物，所述组合物包括：基体聚合物，所述基体聚合物包括从以下通式(I)的单体形成的单元：<img file="FSA0000114479100000011.GIF" wi="573" he="647" />其中：R<sub>1</sub>选自氢、氟、C<sub>1</sub>‑C<sub>3</sub>烷基、和C<sub>1</sub>‑C<sub>3</sub>氟烷基；R<sub>2</sub>选自C<sub>1</sub>‑C<sub>15</sub>亚烷基；且R<sub>3</sub>选自C<sub>1</sub>‑C<sub>3</sub>氟烷基；不含氟的芳酸；和溶剂。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||