| 发明名称 | 一种激光退火装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种激光退火装置，包括：一工件台，用于承载一硅片；一激光光源，用于提供一退火激光光束；一光束整形单元，用于将所述激光光束入射至所述硅片，所述光束整形单元还包括一微镜阵列，用于对激光光束的功率在空间上进行重新分布。本发明同时公开了一种激光退火方法。 | ||
| 申请公布号 | CN104752174A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201310737461.2 | 申请日期 | 2013.12.30 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 程蕾丽 |
| 分类号 | H01L21/268(2006.01)I;B23K26/06(2014.01)I | 主分类号 | H01L21/268(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种激光退火装置，其特征在于，包括：一工件台，用于承载一硅片；一激光光源，用于提供一退火激光光束；一光束整形单元，用于将所述激光光束入射至所述硅片，所述光束整形单元还包括一微镜阵列，用于对激光光束的功率在空间上进行重新分布。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||