一种等离子刻蚀装置

摘要

一种等离子刻蚀装置，包括反应腔室（1）、上部电极（4）、下部电极（5）、气体输入系统、真空获得系统、刻蚀终点检测器、主控制台和调节机构，下部电极（5）的四周设置有排气板（6），所述排气板（6）上具有若干间隔分布的排气孔（8），所述调节机构用于根据刻蚀负载进行调节所述排气孔（8）的通气面积。本发明的等离子刻蚀装置，能够根据刻蚀负载具体情况进行灵活调节排气方式，被加工TFT基板的刻蚀均匀性大大提高，加工后的TFT基板产品质量好。

主权项

一种等离子刻蚀装置，包括反应腔室（1）；上部电极（4）、下部电极（5），设置于所述反应腔室（1）内，所述下部电极（5）的四周设置有排气板（6），所述排气板（6）上具有若干间隔分布的排气孔（8）；气体输入系统，设置于所述反应腔室（1）外部，通过气体输入孔（2）向所述反应腔室（1）内输入加工气体；真空获得系统，设置于所述反应腔室（1）外部，通过排气口（7）将反应生成物抽出所述反应腔室（1）；刻蚀终点检测器，设置于所述反应腔室（1）内；主控制台，用于控制所述等离子刻蚀装置的运行；其特征在于：还包括调节机构，设置于所述反应腔室（1）内，用于根据刻蚀负载进行调节所述排气孔（8）的通气面积。