挡板组件及处理具有该挡板之基板的设备;A BAFFLE ASSEMBLY AND AN APPARATUS FOR TREATING A SUBSTRATE WITH THE BAFFLE

摘要

本发明提供一种能利用1个挡板组件来对1个装备中最合理的电浆或气体的喷射均一度进行调节的基板处理设备。本发明之基板处理设备包括制程腔室、基板支撑单元、气体供给单元、电浆源及挡板组件等。挡板组件包括固定于腔室内之第1喷射板、及于上下方向与第1喷射板结合从而能以其中心为轴旋转之第2喷射板。挡板组件系藉由第2喷射板之旋转角度而按制程腔室内所设之基板的区域来调节电浆或气体的喷射量。