发明名称 曝光装置及其所使用的光罩
摘要
申请公布号 TWI490657 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW098140256 申请日期 2009.11.26
申请人 V科技股份有限公司 发明人 水村通伸
分类号 G03F7/20;G03F1/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种曝光装置,系将于表面设有复数个图样之被曝光体朝一方向搬送,且每让该被曝光体移动等同于该搬送方向之该图样的配列间距之距离,便同时间隔性地将曝光光线经由光罩而照射至该被曝光体,以对应该光罩上所形成之复数个遮罩图样而于该被曝光体之该图样上形成曝光图样,其特征在于该光罩系具备有:沿该被曝光体之搬送方向之约略垂直方向而将该复数个遮罩图样以特定间距一列地排列而形成,且于该被曝光体之搬送方向以该图样之同方向的配列间距之整数倍间距而形成之复数个遮罩图样列、以及各自对应该复数个遮罩图样列之各遮罩图样而形成于该被曝光体侧以将该各遮罩图样缩小投影至该被曝光体上的复数个微透镜;藉由后续之遮罩图样列所形成的复数个曝光图样来补足位在该被曝光体搬送方向前方侧之该遮罩图样列所形成的复数个曝光图样之间处而进行曝光般地,以沿该复数个遮罩图样之该排列方向各自偏移特定尺寸的方式来形成该后续之遮罩图样列以及其各自对应之各微透镜。
地址 日本