ITO-PVD 设备抽真空控制的方法及系统

摘要

本发明公开了一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法及系统。其中该方法包括如下步骤：设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。其在保证设备工艺加工的真空度要求的同时，节省设备成本，且可有效避免硬件设备之间的冲突。

主权项

一种ITO‑PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，包括以下步骤：设置ITO‑PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；工艺加工过程中，当ITO‑PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。