光学测量系统及方法

摘要

本发明公开了一种光学测量方法及系统，该方法包含：提供待测物，其具有参考平面及待测平面；将第一光束进入第一光学单元，藉此该参考平面及该待测平面所反射的光束分别具有第一及第二光程；撷取该参考平面及该待测平面所反射的光束影像，以合成为第一影像；将第二光束进入第二光学单元，藉此该参考平面及该待测平面所反射的光束分别具有第三及第四光程；撷取该参考平面及该待测平面所反射的光束影像，以合成为第二影像；将该第一及第二影像进行影像处理，以产生干涉条纹影像；以及计算多条干涉条纹的偏移角度，以得知该待测平面相对该参考平面的垂直度的偏移角度。

主权项

一种光学测量方法，其特征在于，包含下列步骤：提供一待测物，其具有一参考平面及一待测平面；将一第一光束进入一第一光学单元，藉此该参考平面所反射的光束具有第一光程，且该待测平面所反射的光束具有第二光程；撷取具有一第一光程的该参考平面所反射的光束影像及具有第二光程的该待测平面所反射的光束影像，以合成为一第一影像；将一第二光束进入一第二光学单元，藉此该参考平面所反射的光束具有第三光程，且该待测平面所反射的光束具有第四光程，其中该第三光程等于该第一光程，且该第四光程与该第二光程之间具有一光程差；撷取具有第三光程的该参考平面所反射的光束影像及具有第四光程的该待测平面所反射的光束影像，以合成为一第二影像；将该第一及第二影像进行影像处理，以产生一干涉条纹影像；以及计算多条干涉条纹的偏移角度及偏移方向，以得知该待测平面相对该参考平面的垂直度的偏移角度及偏移方向。