作为除草剂的取代的三唑

摘要

本发明公开了式1的化合物，包括所有的立体异构体、其N-氧化物及其盐，其中A、R¹、Q和J如本公开发明内容所限定。本发明还公开了包含式1的化合物的组合物，以及用于控制不期望的植物的方法，所述方法包括使所述不期望的植物或其环境与有效量的本发明的化合物或组合物接触。

主权项

化合物，所述化合物选自式1、其N‑氧化物及其盐，其中R¹为卤素、氰基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基、C₂‑C₄烷氧基烷基、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₂‑C₄烯基、C₂‑C₄炔基、C₃‑C₄烯氧基、C₃‑C₄炔氧基、C₂‑C₆烷基羰氧基、C₁‑C₄羟烷基、SO_n(R¹²)、C₂‑C₄烷硫基烷基、C₂‑C₄烷基磺酰基烷基、C₁‑C₄烷基氨基C₂‑C₄二烷基氨基、C₃‑C₆环烷基或羟基；A为选自以下的基团：每个Y¹、Y²、Y³、Y⁴和Y⁵独立地为N或CR²，前提条件是Y¹、Y²、Y³、Y⁴和Y⁵中不超过3个为N；每个Y⁶、Y⁷和Y⁸独立地为N或CR³，前提条件是Y⁶、Y⁷和Y⁸中不超过2个为N；Z为O或S；Q为C(R⁴)(R⁵)、O、S或NR⁶；J为苯基，其被1个R⁷取代并且任选地被至多2个R⁸取代；或者J为6元芳族杂环环，其被1个R⁷取代并且任选地被碳环成员上的至多2个R⁸取代；或者J为5元芳族杂环环，其被碳环成员上的1个R⁹和氮环成员上的R¹¹取代；并且任选地被碳环成员上的1个R¹⁰取代；每个R²独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF₅、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₂‑C₄烯基、C₂‑C₄炔基、C₃‑C₄烯氧基、C₃‑C₄炔氧基或S(O)_nR¹²；每个R³独立地为H、卤素、氰基、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基或S(O)_nR¹²；R⁴为H、F、Cl、Br、氰基、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基或CO₂R¹³；R⁵为H、F、C₁‑C₄烷基、OH或OR¹³；或者R⁴和R⁵与其所附接的碳合在一起以形成C(＝O)、C(＝NOR¹³)或C(＝N‑N(R¹⁴)(R¹⁵))；R⁶为H、C₁‑C₄烷基或C₁‑C₄卤代烷基；R⁷为卤素、氰基、SF₅、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基或S(O)_nR¹²；每个R⁸独立地为卤素、氰基、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基或S(O)_nR¹²；或者R⁷和R⁸与两个相邻的碳合在一起以形成5元碳环，其包含选自至多两个O原子和至多两个S原子的环成员，并任选地在碳原子环成员上被至多五个卤素原子取代；R⁹为卤素、氰基、SF₅、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基或S(O)_nR¹²；R¹⁰为卤素、氰基、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基或S(O)_nR¹²；R¹¹为C₁‑C₄烷基或C₁‑C₄卤代烷基；每个R¹²独立地为C₁‑C₄烷基或C₁‑C₄卤代烷基；每个R¹³独立地为H或C₁‑C₄烷基；R¹⁴为C₁‑C₄烷基或C₁‑C₄卤代烷基；R¹⁵为C₁‑C₄烷基或C₁‑C₄卤代烷基；并且每个n独立地为0、1或2；前提条件是i)当R¹为CH₃；A为A‑1；Y¹、Y²、Y³和Y⁴各自为CH；并且Y⁵为CCF₃时，则J不是3‑氯‑1H‑1,2,4‑噻二唑‑5‑基、4‑氟‑2‑吡啶基、4‑氯苯基或2,4‑二氯苯基；并且ii)当R¹为CH₃；A为A‑1；Y¹、Y²、Y³和Y⁴各自为CH；并且Y⁵为CF时，则J不是4‑氟‑3‑甲基苯基。