激光照射方法和激光照射装置

摘要

本发明涉及一种激光照射方法以及激光照射装置。该激光照射方法包含：分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值；以及根据所述所检测的第二峰值与参考峰值的比较和确定结果而控制是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡器。根据实施例，当照射在薄膜上的激光脉冲的第二峰值小于参考峰值时，供应稀有气体以允许所述第二峰值增大且达到所述参考峰值。当所述第二峰值大于所述参考峰值时，供应卤素气体以允许所述第二峰值减小且达到所述参考峰值。本发明的激光照射方法和激光照射装置能够监视激光且校准激光器。

主权项

一种监视激光且校准激光器的激光照射方法，其特征在于包括：分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值；将所述第二峰值与预设参考峰值进行比较且确定所述第二峰值是否满足所述参考峰值；以及根据所述所检测的第二峰值和所述参考峰值的所述比较和确定结果而控制是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡器。