发明名称 一种透明阻变存储器及其制备方法
摘要 本发明公开了一种透明阻变存储器,是在透明衬底上依次集成有下电极层、阻变层和上电极层,所述下电极层和上电极层为非晶的铟镓锌氧化物薄膜,所述阻变层为非晶的锆铪氧化物薄膜、非晶的氧化锆薄膜或非晶的二氧化铪薄膜。本发明同时提供了所述透明阻变存储器的制备方法,采用射频磁控溅射的方法依次在透明衬底上沉积下电极层—阻变层—上电极层。本发明所提供的透明阻变存储器,具有良好的透光性,其在可见光波段范围内的透光率均在76%以上,最高可达92%左右。
申请公布号 CN103311434B 申请公布日期 2015.07.01
申请号 CN201310201770.8 申请日期 2013.05.27
申请人 河北大学 发明人 闫小兵;张二鹏;娄建忠;刘保亭
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人 白海静
主权项 一种透明阻变存储器,是在透明衬底上依次集成有下电极层、阻变层和上电极层,其特征是,所述下电极层和上电极层为非晶的铟镓锌氧化物薄膜,所述阻变层为非晶的锆铪氧化物薄膜,所述锆铪氧化物的化学通式为Zr<sub>n</sub>Hf<sub>1‑n</sub>O<sub>2</sub>,其中n=0.1,0.2,0.3,0.4,0.5,0.6,0.7,0.8或0.9。
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