| 摘要 |
<p>프로세스 챔버에서 기판을 처리하기 위한 장치가 여기에 제공된다. 일부 실시예들에서, 프로세스 챔버에서 사용하기 위한 가스 주입기는, 평탄한 표면에 비스듬하게 제1 프로세스 가스의 경사진 주입을 제공하는 제1 집합의 배출 포트들; 및 제1 집합의 배출 포트들에 근접하며, 평탄한 표면을 실질적으로 따라 제2 프로세스 가스의 가압 층류를 제공하는 제2 집합의 배출 포트들을 포함하며, 평탄한 표면은 제2 집합의 배출 포트들에 수직으로 연장된다.</p> |
