发明名称 |
图案形成方法、电子元件的制造方法、电子元件及水系显影液;METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND AQUEOUS DEVELOPING SOLUTION |
摘要 |
本发明的图案形成方法包括以下步骤:使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物来形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤,其中所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有藉由酸的作用发生分解而产生酸性官能基的树脂;对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤;以及使用含有具有2个以上的硷性官能基的硷性化合物的水系显影液,对经曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的硷显影步骤。; a step of exposing the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film; and an alkali-developing step of developing the exposed actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film using an aqueous developing solution containing an alkali compound having two or more alkali functional groups. |
申请公布号 |
TW201526077 |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
TW103142707 |
申请日期 |
2014.12.09 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION |
发明人 |
榎本雄一郎 ENOMOTO, YUICHIRO;上羽亮介 UEBA, RYOSUKE;白川三千紘 SHIRAKAWA, MICHIHIRO;古谷创 FURUTANI, HAJIME;后藤硏由 GOTO, AKIYOSHI;小岛雅史 KOJIMA, MASAFUMI |
分类号 |
H01L21/027(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗郑婷文詹富闵 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |