发明名称 光学系统、曝光装置及制造设备的方法
摘要
申请公布号 TWI490540 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW102116193 申请日期 2013.05.07
申请人 佳能股份有限公司 发明人 永井善之;宫恭一;安延蔵;川岛春名
分类号 G02B17/08;G02B13/18;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G02B17/08
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光学系统,系在沿着光路按顺序配置:平面反射镜、凹面反射镜、凹凸透镜以及凸面反射镜;在前述凹凸透镜与前述凸面反射镜之间形成有空间;前述光学系统具备用来分离包含前述平面反射镜与前述凹面反射镜之间的光路的空间、和前述空间的构件。
地址 日本