导电孔阵列图形的形成方法

摘要

一种导电孔阵列图形的形成方法，包括：以原始导电孔阵列图形为基础，形成具有多个辅助导电孔图形的新导电孔阵列图形，在新导电孔阵列图形中，每一原始导电孔图形均具有相同的光强信息分布；以新导电孔阵列图形为基础，制作第一掩模板和第二掩模板，其中，第一掩模板用于曝光形成新导电孔阵列图形，第二掩模板用于曝光形成第二掩模层；以第二掩模板为掩模曝光形成第二掩模层，第二掩模层覆盖晶圆用于形成辅助导电孔图形的区域，并暴露出晶圆用于形成原始导电孔阵列图形的区域；形成第二掩模层后，以第一掩模板为掩模曝光形成第一掩模层；以第一掩模层和第二掩模层为掩模，刻蚀晶圆形成实际的导电孔阵列图形。形成的实际的导电孔图形的质量好。

主权项

一种导电孔阵列图形的形成方法，其特征在于，包括：提供原始导电孔阵列图形，所述原始导电孔阵列图形中具有多个原始导电孔图形；以所述原始导电孔阵列图形为基础，形成具有多个辅助导电孔图形的新导电孔阵列图形，在所述新导电孔阵列图形中，每一原始导电孔图形均具有相同的光强信息分布；以所述新导电孔阵列图形为基础，制作第一掩模板和第二掩模板，其中，所述第一掩模板用于曝光形成新导电孔阵列图形，所述第二掩模板用于曝光形成第二掩模层；以所述第二掩模板为掩模曝光形成第二掩模层，所述第二掩模层覆盖晶圆用于形成辅助导电孔图形的区域，并暴露出晶圆用于形成原始导电孔阵列图形的区域；形成第二掩模层后，以所述第一掩模板为掩模曝光形成第一掩模层；以所述第一掩模层和第二掩模层为掩模，刻蚀晶圆形成实际的导电孔阵列图形。