一种正交离子源装置

摘要

本实用新型公开了一种正交离子源装置，包括三维离子化室和位于其外部的离子透镜组；三维离子化室包括离子排斥极、热电子发射灯丝、电子接收阱、直接进样管和样品加热钨丝；离子透镜组包括离子引出极、离子聚焦极、离子加速极和离子出口；在离子化室X轴方向，离子排斥极、样品加热钨丝和离子透镜组在同一直线上；在离子化室Y轴方向，热电子发射灯丝、电子接收阱正对；在离子化室Z轴方向，进样管和加热钨丝正对。本实用新型装置实现对液态样品直接进样，加热钨丝对吸附样品加热的同时进行电子轰击，通过控制加热钨丝电流，降低背景干扰。

主权项

一种正交离子源装置，包括三维离子化室(4)和离子透镜组；其特征在于，所述的三维离子化室包括离子排斥极(1)、热电子发射灯丝(2)、电子接收阱(3)、直接进样管(9)和样品加热钨丝(10)；所述的离子透镜组位于三维离子化室外部，包括离子引出极(5)、离子聚焦极(6)、离子加速极(7)和离子出口(8)；三维离子化室的X轴方向，离子排斥极、样品加热钨丝和离子透镜组在同一直线上；三维离子化室的Y轴方向，热电子发射灯丝、电子接收阱正对；三维离子化室的Z轴方向，直接进样管和样品加热钨丝正对。