发明名称 |
用于闭环控制在真空电弧炉中的电极间距的设备和方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于闭环控制在真空电弧炉(10)中的电极间距的方法以及设备,其中根据熔滴短路率闭环控制熔化电极的相对于熔化物的表面的电极间距。为此,基于至少一个熔滴短路标准(76)建立被探测的熔滴短路(80)的柱状图(70),所述柱状图(70)被划分为子区域(72),为了闭环控制目的,选择柱状图(70)的表示特征的子区域(74),并且基于能与被选择的子区域(74)相关联的熔滴短路(80)闭环控制电极间距。 |
申请公布号 |
CN103181239B |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201180051015.5 |
申请日期 |
2011.10.06 |
申请人 |
ALD真空工业股份公司 |
发明人 |
拉尔夫·厄勒;哈拉尔德·斯科尔茨;弗兰克-韦纳·霍夫曼 |
分类号 |
H05B7/148(2006.01)I |
主分类号 |
H05B7/148(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
张春水;田军锋 |
主权项 |
用于闭环控制真空电弧炉(10)中的电极间距的方法,其中根据熔滴短路率闭环控制熔化电极的相对于熔化物的表面的电极间距,其特征在于,基于至少一个熔滴短路标准(76)建立探测到的熔滴短路(80)的柱状图(70),将所述柱状图(70)划分为子区域(72),为了闭环控制目的选择所述柱状图(70)的表示特征的子区域(74),并且基于能与所选择的子区域(74)相关联的所述熔滴短路(80)闭环控制电极间距。 |
地址 |
德国哈瑙 |