衬底定位系统、光刻设备以及器件制造方法

摘要

一种用于在光刻设备中定位衬底(150、160)的定位系统，该定位系统包括：第一目标台(210)，在操作区域中可移动；第二目标台(310)，在操作区域中可移动；第一位置测量系统(100.1-100.3，200.1，200.1，300.1，300.2)，被配置用于提供第一目标台和第二目标台在位于操作区域中时相对于参考的增量位置测量值，其中第一位置测量被配置用于提供第一目标台相对于参考的绝对位置测量值；第二位置测量系统(330.1，330.2)，被配置用于提供第一目标台相对于第二目标台的绝对位置测量值，并且其中第一位置测量系统进一步被配置用于基于第一目标台相对于参考的绝对位置测量值以及第一目标相对于第二目标的绝对位置测量值来提供第二目标台相对于参考的绝对位置测量值。

主权项

一种用于在光刻设备中定位衬底的定位系统，所述定位系统包括：第一目标台，在操作区域中可移动；第二目标台，在所述操作区域中可移动；第一位置测量系统，被配置用于提供所述第一目标台和所述第二目标台在位于所述操作区域中时相对于参考的增量位置测量值，其中所述第一位置测量被配置用于提供所述第一目标台相对于所述参考的绝对位置测量值；第二位置测量系统，被配置用于提供所述第一目标台相对于所述第二目标台的绝对位置测量值，并且其中所述第一位置测量系统进一步被配置用于基于所述第一目标台相对于所述参考的所述绝对位置测量值以及所述第一目标相对于所述第二目标的所述绝对位置测量值来提供所述第二目标台相对于所述参考的绝对位置测量值。