发明名称 用于后处理来自制备氨基官能有机硅烷的含盐残留物的方法
摘要 本发明涉及用于后处理来自制备氨基官能有机硅烷的含盐残留物的方法。具体地,本发明涉及一种用于后处理来自通式(I)的氨基官能有机硅烷的制备的残留物的方法:R<sub>2</sub>N[(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>NH]<sub>z</sub>(Z)Si(R”)<sub>n</sub>(OR’)<sub>3-n</sub>(Ia),其中各基团如说明书中所述,其中根据式(Ia)的氨基官能有机硅烷的制备基于通式(II)的卤素官能有机硅烷与过量的氨或者通式(III)的有机胺的反应和随后分离并后处理粗产物和产生的含盐的残留物:X-Z-Si(R”)<sub>n</sub>(OR’)<sub>3-n</sub>(II),其中各基团如说明书中所述;RNH[(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>NH]<sub>z</sub>R(III),其中各基团如说明书中所述,其中-向残留物添加基本非极性的有机溶剂和含水碱液,-反应,-然后使水相与有机相分离,-从有机相中分离掉有机溶剂,和-得到留下的有机相。此外,本发明还涉及含有特定的双氨基官能和三氨基官能的有机硅烷的组合物及其用途。
申请公布号 CN101597301B 申请公布日期 2015.07.01
申请号 CN200910141343.9 申请日期 2009.06.02
申请人 赢创德固赛有限责任公司 发明人 P·艾伯特;E·朱斯特
分类号 C07F7/18(2006.01)I;C07F7/10(2006.01)I 主分类号 C07F7/18(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 石克虎;林森
主权项 一种用于后处理含卤化铵和/或有机胺氢卤化物的残留物的方法,所述含卤化铵和/或有机胺氢卤化物的残留物来自通式(Ia)的氨基官能有机硅烷的制备:R<sub>2</sub>N[(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>NH]<sub>z</sub>(Z)Si(R”)<sub>n</sub>(OR')<sub>3‑n</sub>  (Ia),其中基团R是相同或不同的,且R表示氢(H)或具有1‑4个碳原子的直链或支化的烷基;基团R’是相同的或不同的,且R’表示氢(H)或具有1‑8个碳原子的直链或支化的烷基,或者芳基;基团R”是相同的或不同的,且R”表示具有1‑8个碳原子的直链或支化的烷基,或者芳基;Z表示选自下面系列的二价烷基:‑CH<sub>2</sub>‑、‑(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>‑、‑(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>‑、‑(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>‑或‑(CH<sub>2</sub>)(CH)CH<sub>3</sub>(CH<sub>2</sub>)‑;n等于0、1、2或3;且z等于0、1或2,其中根据式(Ia)的氨基官能有机硅烷的制备基于下面步骤:让通式(II)的卤素官能有机硅烷与过量的氨或者通式(III)的有机胺反应,和随后分离并后处理粗产物和产生的含盐残留物:X‑Z‑Si(R”)<sub>n</sub>(OR')<sub>3‑n</sub>  (II),其中X表示C1、Br或I,Z表示选自下面系列的二价烷基:‑CH<sub>2</sub>‑、‑(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>‑、‑(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>‑、‑(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>‑或‑(CH<sub>2</sub>)(CH)CH<sub>3</sub>(CH<sub>2</sub>)‑;基团R’是相同的或不同的,且R’表示氢(H)或具有1‑8个碳原子的直链或支化的烷基,或者芳基;基团R”是相同的或不同的,且R”表示具有1‑8个碳原子的直链或支化的烷基,或者芳基;n等于0、1、2或3;RNH[(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>NH]<sub>z</sub>R  (III),其中基团R是相同的或不同的,且R表示氢(H)或具有1‑4个碳原子的直链或支化的烷基;且z等于0、1或2,其中‑向所述残留物添加非极性的有机溶剂和含水碱液,‑让所述混合物反应,‑然后使所述水相与所述有机相分离,‑从所述有机相中分离掉所述有机溶剂,和‑得到留下的有机相,其中使用氢氧化钠水溶液或氢氧化钾水溶液作为含水碱液。
地址 德国埃森