检查及处理半导体晶圆之方法

主权项

一种制造半导体晶圆之方法，其中该半导体晶圆包含复数个区域，微结构依据不同配置图案配置于其中，其中在至少一选择区域之中，其依据一规律式重复性配置图案配置该微结构，该规律式重复性配置图案具有一最小重复周期长度，且其中该方法包含：将该晶圆之整个表面成像至一侦测器之一像素阵列上，其中该晶圆中被成像至该侦测器一像素之一面积具有一超过该最小重复周期长度之5倍、10倍或50倍之一延伸，且其中该至少一选择区域各自被成像至一选择像素群组；其中成像包含具有第一光设定的一第一成像及具有第二光设定的一第二成像，该第一光设定及第二光设定就将该晶圆成像至该相机上所用之光之偏极化和光谱中之至少一者而言系相异的，并且其中相对于所用于该成像中之一成像光学模组被维持于同一位置且同时执行该第一成像和该第二成像；自该侦测器之像素收集侦测信号以用于该第一成像和该第二成像；以及对复数群组之选择侦测信号中之每一群组计算至少一数值，其中该每一群组选择侦测信号包含收集自至少一该选择像素群组之成员之像素之侦测信号，且其中来自非任一该选择像素群组之成员之像素之复数侦测信号并未包含于该选择侦测信号之任一群组之中。