发明名称 化合物半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI491043 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW101150053 申请日期 2012.12.26
申请人 创世舫电子日本股份有限公司 发明人 今西健治
分类号 H01L29/78;H01L21/28 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种化合物半导体装置,系包括:基板;电子传输层与电子供给层,系形成于该基板上;闸极电极、源极电极与汲极电极,系形成于该电子供给层上;p型半导体层,系形成于该电子供给层与该闸极电极之间;以及电洞消除层,系形成于该电子供给层与该p型半导体层之间,该电洞消除层系包括供体或复合中心并消除电洞。
地址 日本