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经营范围
发明名称
化合物半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号
TWI491043
申请公布日期
2015.07.01
申请号
TW101150053
申请日期
2012.12.26
申请人
创世舫电子日本股份有限公司
发明人
今西健治
分类号
H01L29/78;H01L21/28
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种化合物半导体装置,系包括:基板;电子传输层与电子供给层,系形成于该基板上;闸极电极、源极电极与汲极电极,系形成于该电子供给层上;p型半导体层,系形成于该电子供给层与该闸极电极之间;以及电洞消除层,系形成于该电子供给层与该p型半导体层之间,该电洞消除层系包括供体或复合中心并消除电洞。
地址
日本
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