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一种用于提供纯四氟化矽(SiF4)的方法，所述方法包括以下步骤：a)将氟矽酸钠(SFS)放入反应室中，b)提供具有密封区的第一乾式真空泵，以将所述反应室排空到小于约100托，c)提供压缩机以取得所述真空泵的输出，d)使所述压缩机通电，e)将四氟化矽(SiF4)气体提供给所述乾式真空泵的所述密封区，f)将所述氟矽酸钠(SFS)加热到至少700℃，g)使所述乾式真空泵通电以将所述室排空到小于200托，h)将形成于所述反应室中的纯的所述四氟化矽(SiF4)压缩到至少300psi，以及i)回馈被压缩之所述四氟化矽(SiF4)至所述真空泵的所述密封区。 |
