发明名称 | 镀膜件及其制备方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI490351 | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
申请号 | TW099146478 | 申请日期 | 2010.12.29 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;廖高宇;熊小庆 |
分类号 | C23C14/06;C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/06 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种镀膜件,其包括基体及形成于基体表面的打底层,其改良在于:该镀膜件还包括直接形成于打底层表面的氮氧化铬层及直接形成于氮氧化铬层表面的氮化矽层。 | ||
地址 | 新北市土城区自由街2号 |