| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够谋求生产率的提高的基板处理装置。实施方式的基板处理装置包括多个处理单元以及基板输送装置。多个处理单元在铅垂方向上并排地配置，用于处理基板。基板输送装置能够在铅垂方向上移动，用于进行基板相对于处理单元的送入送出。另外，基板输送装置包括第1输送臂和第2输送臂，第1输送臂和第2输送臂在铅垂方向上并排地配置，并且，在铅垂方向上的可移动范围互相重叠且能独立地在铅垂方向上移动。 | ||
| 申请公布号 | CN104752279A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201410834589.5 | 申请日期 | 2014.12.26 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 森川胜洋;上田一成;村田晃;南田纯也 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置包括：多个处理单元，其在铅垂方向上并排地配置，用于处理基板；以及基板输送装置，其能够在铅垂方向上移动，用于进行所述基板相对于所述处理单元的送入送出，所述基板输送装置包括第1输送臂和第2输送臂，该第1输送臂和第2输送臂在铅垂方向上并排地配置，并且在铅垂方向上的可移动范围互相重叠且能独立地在铅垂方向上移动。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||