发明名称 |
流体压力设备 |
摘要 |
在一种流体压力设备(10)中,衬垫(26)包括由弹性材料制成的环形密封构件(42)和由低摩擦系数材料制成且被安装在密封构件(42)的外圆周上的支撑环(44)。密封构件(42)在其外圆周上包括接触滑孔(18)的内表面的密封突起(46)。支撑环(44)被设置在密封突起(46)的两侧上,并且在轴向上从密封构件(42)突出。支撑环(44)的外周表面总是接触滑孔(18)的内周表面。当横向负荷不作用在用作分隔构件的活塞(13)上时,支撑环(44)的内周表面不接触活塞(13)的外圆周。当横向负荷作用在活塞(13)上时,支撑环(44)的内周表面接触活塞(13)的外圆周。 |
申请公布号 |
CN102252093B |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201110145285.4 |
申请日期 |
2011.05.19 |
申请人 |
SMC株式会社 |
发明人 |
大熊正博;铃木康永 |
分类号 |
F16J15/16(2006.01)I |
主分类号 |
F16J15/16(2006.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 31210 |
代理人 |
梅高强 |
主权项 |
一种流体压力设备(10),其特征在于,包括:外壳(12),所述外壳(12)包括形成在其中的滑孔(18);分隔构件(13),所述分隔构件(13)沿着所述滑孔(18)的内部在轴向上运动;和衬垫(26,26a,26b),所述衬垫(26,26a,26b)被安装在所述分隔构件(13)的外圆周上,其中,所述衬垫(26,26a,26b)包括由弹性材料制成的环形密封构件(42,42a),和由低摩擦系数材料制成的至少一个支撑环(44,44a,44b),所述密封构件(42,42a)被安装于形成在所述分隔构件(13)的外圆周上的环形衬垫安装槽(24)中,所述至少一个支撑环(44,44a,44b)被安装在所述密封构件(42,42a)的外圆周上;所述密封构件(42,42a)在其外圆周上包括接触所述滑孔(18)的内周表面的密封突起(46)和形成在所述密封突起(46)的两侧或者一侧上并且从所述衬垫安装槽(24)向外突出的至少一个肩部分(48);所述至少一个支撑环(44,44a,44b)被设置在所述密封突起(46)的两侧或一侧上,并且在其的轴向上从所述密封构件(42,42a)突出;并且所述至少一个支撑环(44,44a,44b)包括支撑表面(52,52a),所述支撑表面(52,52a)在其的外圆周上平行于所述分隔构件(13)的轴向,并且其中,当横向负荷不作用在所述分隔构件(13)上时,所述密封突起(46)压靠所述滑孔(18)的内周表面,从而所述密封突起(46)被弹性压缩并发生变形,并且所述至少一个支撑环(44,44a,44b)的所述支撑表面(52,52a)与所述滑孔(18)的内周表面接触,而所述至少一个支撑环(44,44a,44b)的内周表面不与所述分隔构件(13)的外圆周接触;和当至少特定量的横向负荷作用在所述分隔构件(13)上时,所述密封突起(46)压靠所述滑孔(18)的内周表面,从而所述密封突起(46)被弹性压缩并发生变形,并且所述至少一个支撑环(44,44a,44b)的所述支撑表面(52,52a)与所述滑孔(18)的内周表面接触,而所述至少一个支撑环(44,44a,44b)的内周表面与所述分隔构件(13)的外圆周接触。 |
地址 |
日本国东京都千代田区外神田四丁目14番1号秋叶原UDX15阶 |