发明名称 |
掩膜及包括该掩膜的滤光片制造设备 |
摘要 |
本发明提供了一种掩膜和含有该掩膜的滤光片制造设备。所述滤光片制造设备包括:在卷装进出方法中使用的辊;卷绕在所述辊上的基膜;产生用于曝光的光的光源;偏光板,其被安装在所述光源的发光侧,并且使从所述光源中产生的光偏振;和掩膜,其致使在所述基膜上形成图形且包括多个导缝,所述多个导缝被开口以具有预定的厚度和预定的宽度。根据本发明,所述基膜的整个表面可以用均匀的光量辐照。因此,可以在所述基膜的表面上均匀地形成图形,可以提高产品的质量,并且可以精确地实现基膜的性能。 |
申请公布号 |
CN103119481B |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201180037021.5 |
申请日期 |
2011.07.26 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
金信英;洪敬奇;尹赫;朱元喆;赵镛一;朴文洙;高铜浩;柳秀英 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
朱梅;徐琳 |
主权项 |
一种用于在基膜上形成图形的在卷装进出方法中使用的掩膜,其包括:多个导缝,其被开口以具有预定的厚度和预定的宽度,其中,所述导缝被设计为满足下面的公式:[公式]t≥5a其中,t表示所述导缝的厚度,a表示所述掩膜与基膜之间的间距,且0<a≤50mm。 |
地址 |
韩国首尔 |