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经营范围
发明名称
雷射加工用保护膜剂
摘要
一种雷射加工用保护膜剂,其系于雷射加工之际,作为供包覆保护晶片之表面之水溶性接着剂,使用聚N-乙烯基乙醯胺。藉由此溶液,作为雷射加工用保护膜剂。加工后,藉由洗净软化液洗掉。由该保护膜剂,可确实防止屑附着在晶片表面。再者,该雷射加工用保护膜剂中,更可添加吸收加工用之雷射光的吸收剂。
申请公布号
TW201526097
申请公布日期
2015.07.01
申请号
TW103144084
申请日期
2014.12.17
申请人
日化精工股份有限公司 NIKKA SEIKO CO., LTD.
发明人
新城正昭 SHINJO, MASAAKI;竹内吉政 TAKEUCHI, YOSHIMASA;只野刚 TADANO, TSUYOSHI;广濑昌史 HIROSE, MASAFUMI
分类号
H01L21/304(2006.01);H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/304(2006.01)
代理机构
代理人
黄耀霆
主权项
地址
日本 JP
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