发明名称 雷射加工用保护膜剂
摘要 一种雷射加工用保护膜剂,其系于雷射加工之际,作为供包覆保护晶片之表面之水溶性接着剂,使用聚N-乙烯基乙醯胺。藉由此溶液,作为雷射加工用保护膜剂。加工后,藉由洗净软化液洗掉。由该保护膜剂,可确实防止屑附着在晶片表面。再者,该雷射加工用保护膜剂中,更可添加吸收加工用之雷射光的吸收剂。
申请公布号 TW201526097 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW103144084 申请日期 2014.12.17
申请人 日化精工股份有限公司 NIKKA SEIKO CO., LTD. 发明人 新城正昭 SHINJO, MASAAKI;竹内吉政 TAKEUCHI, YOSHIMASA;只野刚 TADANO, TSUYOSHI;广濑昌史 HIROSE, MASAFUMI
分类号 H01L21/304(2006.01);H01L21/306(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 黄耀霆
主权项
地址 日本 JP