发明名称 中空单元阵列结构以及制造中空单元阵列结构之方法与装置
摘要
申请公布号 TWI490111 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW099122669 申请日期 2010.07.09
申请人 理光股份有限公司 发明人 金松俊宏;大垣杰;青木慎司;妹尾晋哉;升泽正弘;大岛久庆;井上裕贵依
分类号 B29D22/00 主分类号 B29D22/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种制造中空单元阵列结构的方法,包含:第一步骤,其系将可在预定条件下塑性变形的可变形材料层置在第一基板上,该第一基板于其表面具有多个互相分开的凹部,使得该可变形材料于该等凹部形成相应的互相隔离的空间;第二步骤,其系在延伸该第一基板上的该可变形材料之时,藉着引起该空间的气体压力而使该多个凹部内的该空间膨胀,使得多个中空单元于预定方向相应于该多个凹部同时地形成;及第三步骤,其系藉着对垂直延伸至该第一基板的该多个中空单元的单元壁部选择性地施加紫外线而选择性地固化该多个中空单元的该单元壁部;其中在该第三步骤中,该多个中空单元的该部份是藉着经由该第一基板的紫外线透射图型,以所施加的该紫外线于该多个中空单元内的单元壁部与相应的空间之间的界面被全反射的角度,对该多个中空单元的该部份选择性地施加该紫外线而被选择性地固化。
地址 日本