发明名称 |
一种内表面具有微凸结构阵列的反射元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种具有内表面微凸结构阵列的反射元件及其制造方法,包括S1采用凸版热压印涂层的柔性转印胶膜制备步骤,S2采用密封抽气负压吸附的阳模曲表面修饰步骤,S3热塑性或热固性胶料的微注射成型步骤,S4脱模、超声波清洗及内表面真空镀铝步骤,反射元件的微凸结构为椎体或台体,椎体包括圆锥、棱锥,台体包括圆台、棱台,微凸结构底面最小外接圆直径≤2.5μm,微凸结构的高度≤3μm。本发明内表面具有微凸结构阵列反射元件的制造方法可实现工业化生产,具有微结构复制比高,尺寸精密,制造工艺简单等优点。 |
申请公布号 |
CN104742297A |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201510075679.5 |
申请日期 |
2015.02.11 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
汤勇;李宇吉;李宗涛;陈丘;余树东 |
分类号 |
B29C45/00(2006.01)I;G02B5/124(2006.01)I |
主分类号 |
B29C45/00(2006.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
罗观祥 |
主权项 |
一种内表面具有微凸结构阵列的反射元件的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:S1采用凸版热压印涂层制备具有微凹结构的柔性转印胶膜步骤S2采用密封抽气负压吸附修饰阳模曲表面步骤;S3热塑性或热固性胶料的微注射成型步骤;S4脱模、超声波清洗及内表面真空镀铝步骤。 |
地址 |
510640 广东省广州市天河区五山路381号 |