| 发明名称 |
用以形成保护层的溶液与其制造方法与使用方法;SOLUTION FOR FORMING PROTECTIVE LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING AND USING THEREOF |
| 摘要 |
一种溶液，用以在晶片中形成保护层。溶液包括一水溶性树脂、一水溶性雷射吸收剂以及一溶剂。溶剂包括水与有机溶剂，且水与有机溶剂之重量比为3~17。 |
| 申请公布号 |
TW201525085 |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
| 申请号 |
TW103146451 |
申请日期 |
2014.12.31 |
| 申请人 |
奇美实业股份有限公司 CHI MEI CORPORATION |
发明人 |
陈秋枫 CHEN, CHIU FENG |
| 分类号 |
C09D5/16(2006.01);C09D7/12(2006.01);H01L21/56(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C09D5/16(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
祁明辉林素华涂绮玲 |
| 主权项 |
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| 地址 |
台南市仁德区三甲村59之1号 TW |
