发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>본 발명의 과제는 장치의 소형화 및 처리량의 향상이 도모되고, 또한 다른 노광 장치의 기판 전달부의 배치에 대응 가능하게 하는 것이다. 적층되는 복수의 기판의 도포 처리부 및 현상 처리부를 구비하는 처리 블록과, 기판의 노광 처리부를 구비하는 노광 블록(S4)과, 처리 블록에 연속 설치되어 처리 블록과 상기 노광 블록을 접속하는 인터페이스 블록(S3)을 구비하는 기판 처리 장치에 있어서, 인터페이스 블록은 도포 후의 기판을 적재하는 제1 적재부(TRS-COT), 현상 전의 기판을 적재하는 제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및 기판 전달부(TRS)를 적층하는 선반 유닛(U6)과, 선반 유닛을 사이에 둔 양측에 배치되어, 각각이 선반 유닛에 대하여 기판의 전달이 가능하며, 한쪽이 노광 블록에 대하여 기판의 전달이 가능하게 형성되는 제1 기판 반송 기구(60A) 및 제2 기판 반송 기구(60B)를 구비한다.</p>
申请公布号 KR101532826(B1) 申请公布日期 2015.06.30
申请号 KR20130013259 申请日期 2013.02.06
申请人 发明人
分类号 B65G49/07;H01L21/027;H01L21/677 主分类号 B65G49/07
代理机构 代理人
主权项
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