发明名称 TARGET MATERIAL SUPPLY FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE
摘要 극자외선(EUV) 광원용 타겟 재료 공급 장치는 제1 단부, 제2 단부, 및 제1 및 제2 단부 사이에 형성된 측벽을 갖춘 포함하는 튜브를 포함한다. 튜브의 외측면 중 적어도 일부분은 전기 절연성 재료를 포함하고, 제1 단부는 가압된 타겟 재료를 받아들이고, 제2 단부에는 가압된 타겟 재료가 통과하여 타겟 재료 방울의 스트림을 만들어내는 오리피스가 형성되어 있다. 타겟 재료 공급 장치는 또한 튜브의 외측면 상에 전기 도전성 코팅을 포함한다. 이 코팅은 튜브의 외측면을 접지에 전기적으로 접속시켜 외측면 상의 표면 전하를 줄이도록 구성되어 있다.
申请公布号 KR20150073184(A) 申请公布日期 2015.06.30
申请号 KR20157011818 申请日期 2013.09.25
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 DE DEA SILVIA;VASCHENKO GEORGIY O.;BAUMGART PETER M.;BOWERING NORBERT R.
分类号 H05G2/00;C23C14/18 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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