A SELF-CONDITIONING POLISHING PAD AND A METHOD OF MAKING THE SAME

摘要

본 발명은 자가-컨디셔닝 연마 패드에 대한 것이다. 자가-컨디셔닝 연마 패드는 불용성 중합체 발포체 매트릭스를 포함하고 발포체 매트릭스 내부에 불용성 중합체 발포체 입자를 포함한다. 입자는 입자의 표면적 중 일부분이 수용성 성분으로 코팅된다. 입자는 5 내지 1000 마이크론 범위의 직경을 가질 수 있다.